Graveur – RIE-110ip de SAMCO
Description
Le RIE-110iP est un graveur au plasma à couplage inductif utilisant tant le fluor que le chlore pour la gravure anisotrope de tranches semi-conductrices.
Il sert principalement à graver des motifs dans les tranches en silicium et en composé III‑V pour les structures nanophotoniques.
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