Microscope à faisceau d’ions d’hélium (HIM) et faisceau d’ions focalisé (FIB) – ORION NanoFab de Zeiss

N.B. : Cet outil ne fait pas partie d’un ensemble utilisateur et peut être loué à l’heure.

Le microscope HIM/FIB multicolonne (GFIS et FIB de gallium) ORION NanoFab de Zeiss est conçu pour l’usinage in situ de nombreux matériaux. Le HIM peut fournir une résolution d’image sous les 0,5 nm à une tension de 10 à 30 kV et à une intensité de 0,1 à 100 pA. La colonne du FIB de gallium peut fournir une résolution d’image sous les 3 nm à 30 kV et à une intensité de 1 pA à 100 nA.

Ce système contient une chambre hermétique assurant un temps d’échange de 3 min pour les échantillons. Il utilise un détecteur d’électron secondaire Everhart Thornley et est également équipé d’un canon à flux d’électrons pour l’imagerie des échantillons et matériaux non conducteurs. Cet outil est capable de produire des images en 4K. Le moteur de nanostructuration et de visualisation utilise un générateur de balayage de 16 bits et des modules doubles d’acquisition de signaux.

Il est aussi doté d’un système d’injection de gaz qui applique des structures de tungstène (conducteur), d’orthosilicate de tétraéthyle (TEOS; isolant) et de difluorure de xénon (XeF₂), permettant d’augmenter le taux de gravure du silicium.

Les colonnes du HIM et du FIB peuvent toutes les deux faire l’usinage et l’imagerie. À noter que l’imagerie peut être destructive. Cet outil n’est pas facile à utiliser et demande des mois de pratique et d’expérience. Avant de suivre la formation, il faut remplir les conditions préalables ci-dessous.

• Classification : 10/10
• Conditions préalables :
  • Évaporateur
  • Microscope à force atomique
  • Microscope électronique à balayage
  • Lithographie par faisceau d’électrons
  • Tournette de traitement
  • Profilomètre Dektak
  • Connaissance de l’usinage à faisceau d’ions, des générateurs de structures et des plans en CAO

Télécharger la brochure de l’ORION NanoFab (anglais seulement - version PDF, 5,20 Mo)